2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[16p-D505-1~9] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2023年3月16日(木) 13:30 〜 16:00 D505 (11号館)

本間 剛(長岡技科大)、須藤 祐司(東北大)

14:30 〜 14:45

[16p-D505-5] アモルファス硫化ゲルマニウム膜への銀のフォトドーピング― 硫化ゲルマニウム膜アニール処理の効果

〇(M2)能登 勇真1、加茂 直紀1、渋谷 猛久2、村上 佳久3、坂口 佳史4 (1.東海大工、2.東海大理系教育センター、3.筑波技術大、4.CROSS)

キーワード:フォトドーピング、X線, 中性子反射率、アモルファス硫化ゲルマニウム

フォトドーピングとは金属/アモルファスカルコゲナイド(a-Ch)の二層膜にa-Chの吸収端近傍の光を照射することで金属がa-Ch中へ異常拡散する現象である.光照射の経過時間に伴う銀の拡散状態の変化が中性子反射率(NR),X線反射率(XRR)により調べられている.本報告では二硫化ゲルマニウム薄膜へのアニール処理が銀のフォトドーピングへ与える影響をNR, XRRによって調べた結果を報告する.