[2F19-24] 除染技術・デブリ処理技術

2016年9月8日(木) 16:55 〜 18:30 F会場 (久留米シティプラザ Cボックス)

座長：土方孝敏（電中研）

16:55 〜 17:10

[2F19] セシウムとストロンチウムで汚染した金属廃棄物の溶融除染

*堀内伸剛¹、西川雄¹、田中宏和¹ (1.三菱マテリアル)

17:10 〜 17:25

*宮本真吾¹、岩﨑守¹、小森英之¹、会沢元浩²、太田信之²、岩佐淳司²、石田一成³ (1.栗田工業、2.日立GE、3.日立)

17:25 〜 17:40

*立花優¹、奥村森²、野上雅伸³、鈴木達也¹、野村雅夫²、金敷利隆² (1.長岡技術科学大学、2.東京工業大学、3.近畿大学)

17:40 〜 17:55

*大野貴裕¹、佐藤修彰²、根津篤³、内山孝文¹、松浦治明¹ (1.東京都市大学、2.東北大学、3.東京工業大学)

17:55 〜 18:10

*星野国義¹、深澤哲生¹、笹平朗¹、渡邊伸二¹、菊池俊明²、近沢孝弘²、桐島陽³、佐藤修彰³ (1.日立GE 、2.三菱マテリアル、3.東北大)

18:10 〜 18:25

*佐藤修彰¹、桐島陽¹、深澤哲生² (1.東北大、2.日立GE)

座長持ち時間 (18:25 〜 18:30)