[3M01-06] Beam measurement

[3M02] Development of the automatic micro-ion-beam focusing system using the secondary electron imaging system

＊Shuhei Suzuki¹, Keizo Ishii¹, Shigeo Matsuyama¹, Atsuki Terakawa¹, Mitsuhiro Fujiwara¹, Daiki Seki¹, Daichi Sata¹, Kota Imaizumi¹, Taisuke Hatakeyama¹ (1.Department of Quantum Science and Energy Engineering, Tohoku University)

Keywords:Micro-ion-beam, Secondary electron

東北大学における二連四重極レンズを用いたマイクロプロトンビームの形成について、これまでの金属メッシュのマイクロPIXE画像の鮮明度という定性的な判断によるフォーカシングでは収束完了までに時間を要する上、精度の高い調整は困難であった。そこで、本研究はプロトンビーム照射の際に発生する二次電子が特性X線より収量が多く，なおかつ二次電子による画像が試料形状を反映させることに着目し，金属メッシュをビームスキャンすることで二次電子情報から試料の形状画像を取得するシステムの開発を行った。これを用いてビーム径を自動測定し、さらに四重極電磁石の電流量を自動調整することでマイクロビーム調整に要する時間を短縮させることを目的としたフォーカシングシステムの開発について報告する。