[1L10-14] Radiation Chemistry, Biology and Gamma-ray Application

[1L13] Study on primary process of radiation-induced chemical reaction of metal resist ligands

*Teppei Yamada¹, Satoshi Ishihara¹, Hiroki Yamamoto², Yusa Muroya¹, Yoshitaka Komuro³, Daisuke Kawana³, Akiyoshi Yamazaki³, Takahiro Kozawa¹ (1. ISIR. Osaka Univ, 2. QST, 3. Tokyo Ohka Kogyo)

Keywords:Pulse radiolysis, Gamma radiolysis, Next generation resist, Ligand

高感度かつ耐エッチング性の高いメタルレジストは次世代フォトレジストとして注目されているが、そのビーム誘起反応のメカニズムについては未だによくわかっていない。そこで本研究では、パルスラジオリシス法とガンマラジオリシス法を用いてその反応メカニズムを調べた。