2019 Fall Meeting

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Oral presentation

II. Radiation, Accelerator, Beam and Medical Technologies » 203-3 Application of Beams, Target

[1M07-12] Quantum Beam Application

Wed. Sep 11, 2019 2:45 PM - 4:20 PM Room M (Common Education Bildg. 3F A31)

Chair:Koichi Kan(Osaka Univ.)

3:45 PM - 4:00 PM

[1M11] Study on irradiation of resist materials by soft x-ray free-electron laser

*Kazumasa Okamoto1, Syunpei Kawai2, Shigeo Hori2, Yuta Ikari1, Akihiro Konda1, Takahiro Kozawa1, Masaharu Nishikino3, Masahiko Ishino3, Thanh-Hung Dinh3, Hiroo Kinoshita4 (1. Osaka Univ., 2. Hokkaido Univ., 3. QST, 4. Univ. of Hyogo)

Keywords:X-ray free-electron laser, resist materials, EUV-lithography

次世代の半導体量産用リソグラフィ光源である極端紫外線(EUV)の高出力化のため、加速器ベースの自由電子レーザー(FEL)の開発が検討されている。しかしながら、高フラックス光源の照射がレジスト材料の感度や耐性に与える影響はほとんど明らかになっていない。そのため、SACLAの軟X線FELを用いてレジスト材料の感度と耐性に与える影響について調べた。