3:45 PM - 4:00 PM
[1M11] Study on irradiation of resist materials by soft x-ray free-electron laser
Keywords:X-ray free-electron laser, resist materials, EUV-lithography
次世代の半導体量産用リソグラフィ光源である極端紫外線(EUV)の高出力化のため、加速器ベースの自由電子レーザー(FEL)の開発が検討されている。しかしながら、高フラックス光源の照射がレジスト材料の感度や耐性に与える影響はほとんど明らかになっていない。そのため、SACLAの軟X線FELを用いてレジスト材料の感度と耐性に与える影響について調べた。