2019年秋の大会

講演情報

一般セッション

II. 放射線工学と加速器・ビーム科学および医学利用 » 202-3 中性子源・中性子工学

[3N01-05] 中性子計測・施設

2019年9月13日(金) 09:45 〜 11:05 N会場 (共通教育棟 3F A32)

座長:前畑 京介(九大)

10:15 〜 10:30

[3N03] メチルベンゼン類の熱中性子散乱断面積解析における分子力場依存性

*安部 豊1、田崎 誠司1、日野 正裕1 (1. 京大)

キーワード:熱中性子散乱断面積、冷中性子源、メチルベンゼン類、分子力場

メチルベンゼン類の熱中性子散乱断面積解析における分子力場依存性を評価するために,代表的な4つの分子力場(GROMOS54A7,CHARMM36,OPLS-AA,GAFF)を用いて状態密度を解析した.冷中性子生成に重要となるメチル基の束縛回転モードや数十meV以下での分子内振動モードにおいて顕著な分子力場依存性が見られ,実験値と比較してCHARMM36による解析結果が最も妥当であることが判明した.