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[2K03] Active volumeを用いた温度並列Simulated annealingによるメゾ時間スケール原子シミュレーション
キーワード:Simulated annealing、照射誘起欠陥、メゾ時間スケールシミュレーション
材料中照射誘起欠陥のメゾ時間スケールシミュレーションを行うため,Active volumeを用いた温度並列Simulated annealing手法を開発した.本研究では,欠陥のよりエネルギーの低い安定状態を求めることができる温度並列Simulated annealingと,欠陥の拡散プロセスを精確かつ効率的に探索できるActive volumeによる活性化過程探索を組み合わせることにより,メゾ時間スケールで発生する欠陥発達プロセスをシミュレーションすることに成功した.