10:00 〜 10:10
○高谷 光・相田 冬樹・本間 徹生・中村 正治 (京大化研・分子研)
アカデミック・プログラム(AP)
高分子
2020年3月24日(火) 10:00 〜 12:10 D4 (講義棟 3F K309)
3D4-07~3D4-12 青木 大輔
3D4-14~3D4-19 小門 憲太
10:00 〜 10:10
○高谷 光・相田 冬樹・本間 徹生・中村 正治 (京大化研・分子研)
10:10 〜 10:20
○西山 和輝・今岡 享稔・山元 公寿 (東工大化生研)
10:20 〜 10:30
○鬼塚 弥里・アルブレヒト 建・今岡 享稔・山元 公寿 (東工大化生研・JST-ERATO)
10:30 〜 10:40
○喜来 佳大・今岡 享稔・山元 公寿 (東工大物質理工)
10:40 〜 10:50
○李 惠京・井本 裕顕・中 建介 (京工繊院工芸)
10:50 〜 11:00
○三島 康太・深谷 直紀・小門 憲太・佐田 和己 (北大院総化)
11:10 〜 11:20
○張 潔媛・飯島 正和・須賀 健雄・小柳津 研一 (早大先進理工)
11:20 〜 11:40
○野村 圭一郎・ペン シャーユ・ミラー ケビン・エリソン クリストファー (東レ化成品研・ミネソタ大)
11:40 〜 11:50
○LEE LE HOOI・山元 和哉・門川 淳一 (鹿児島大院理工)
11:50 〜 12:00
○山元 和哉・小濱 祐・渡辺 隆太・門川 淳一 (鹿児島大院理工)
12:00 〜 12:10
○北囿 誠也・山元 和哉・門川 淳一 (鹿児島大院理工)