日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2020年3月22日(日) 14:30 〜 16:40 C2 (講義棟 3F K302)

1C2-34~1C2-39 太田 英輔
1C2-41~1C2-45 坂本 健

16:00 〜 16:10

[1C2-43] 5,8位にヒドロキシメチル基を有するポリ(キノキサリン-2,3ジイル)の合成とらせん不斉誘起

口頭A講演

○若山 穣士・藤江 峻也・山本 武司・杉野目 道紀 (京大工)

PC接続時間:15:30~15:40

キーワード:ポリ(キノキサリン-2,3-ジイル)、らせん不斉、高分子反応、不斉誘起、外部刺激応答性

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