日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2020年3月23日(月) 10:00 〜 12:10 D4 (講義棟 3F K309)

2D4-07~2D4-12 脇岡 正幸
2D4-14~2D4-19 井本 裕顕

12:00 〜 12:10

[2D4-19] オリゴホスフィン類を保護剤とするPdサブナノクラスターの合成

口頭A講演

○合田 宏樹・末永 悠太・藤永 朔・寒原 啓介・太田 英俊・林 実 (愛媛大院理工)

PC接続時間:11:00~11:10

キーワード:オリゴホスフィン、ポリマー、デンドリマー、金属クラスター、パラジウム

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