日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2020年3月23日(月) 13:30 〜 16:50 D4 (講義棟 3F K309)

2D4-28~2D4-33 桑原 純平
2D4-35~2D4-39 福元 博基
2D4-42~2D4-47 石割 文崇

15:50 〜 16:00

[2D4-42] 表面官能基がメカノクロミックデンドリマーの力学応答性に与える影響

口頭A講演

○渡部 拓馬・青木 大輔・大塚 英幸 (東工大物質理工)

PC接続時間:15:40~15:50

キーワード:メカノケミストリー、デンドリマー、メカノクロミズム、ラジカル、電子スピン共鳴

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