日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

錯体化学・有機金属化学

錯体化学・有機金属化学

2020年3月23日(月) 09:00 〜 12:20 F3 (講義棟 5F K503)

2F3-01~2F3-06 砂月 幸成
2F3-08~2F3-13 速水 真也
2F3-15~2F3-20 和田 亨

09:40 〜 09:50

[2F3-05] 酸化還元活性なdhbq類縁体を利用した新規MOFの合成

口頭A講演

○田中 陽樹・高石 慎也・井口 弘章・山下 正廣 (東北大理)

PC接続時間:08:50~09:00

キーワード:3d 遷移金属、多孔性配位高分子、ベンゾキノン、新規配位子合成、酸化還元

予稿PDFを閲覧するには以下,有効なIDとパスワードが必要です。
(A)事前参加登録をされた方
年会マイページの「ログインID(メールアドレス)」と「パスワード」をご利用ください。
(B)会期中に当日登録をされた方
登録時に受け取られたカードに記載の「ユーザー名」と「パスワード」をご利用ください。
» 参加者用ログイン