日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

材料の応用

材料の応用

2020年3月23日(月) 13:00 〜 17:30 G5 (講義棟 5F K510)

2G5-25~2G5-30 松原 正樹
2G5-32~2G5-37 東條 敏史
2G5-39~2G5-43 尾上 順
2G5-46~2G5-51 久保 由治

17:00 〜 17:10

[2G5-49] 有機修飾ハイドロタルサイトとの複合化による除草剤の溶出抑制

口頭A講演

○鈴木 惇平・河野 芳海・渡部 綾・福原 長寿 (静岡大院総合科学技術)

PC接続時間:16:20~16:30

キーワード:除草剤、2,4-ジクロロフェノキシ酢酸、ハイドロタルサイト、溶出抑制、複合化

予稿PDFを閲覧するには以下,有効なIDとパスワードが必要です。
(A)事前参加登録をされた方
年会マイページの「ログインID(メールアドレス)」と「パスワード」をご利用ください。
(B)会期中に当日登録をされた方
登録時に受け取られたカードに記載の「ユーザー名」と「パスワード」をご利用ください。
» 参加者用ログイン