日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2020年3月24日(火) 09:00 〜 11:50 C1 (講義棟 3F K301)

3C1-01~3C1-04 須川 晃資
3C1-06~3C1-11 湯村 尚史
3C1-13~3C1-17 橋詰 峰雄

10:20 〜 10:30

[3C1-09] 溶液プロセスを用いた高分子電解質による炭素系シート材料の表面修飾

口頭A講演

○寒川 卓哉・家高 佑輔・橋詰 峰雄 (東理大工)

PC接続時間:09:40~09:50

キーワード:炭素シート、表面修飾、π-πスタッキング、高分子電解質、溶液プロセス

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