日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2020年3月24日(火) 10:00 〜 12:10 C2 (講義棟 3F K302)

3C2-07~3C2-11 前田 勝浩
3C2-14~3C2-19 宮坂 誠

11:20 〜 11:40

[3C2-15] ラセン記憶能を有するポリ(ビフェニルイルアセチレン)を 利用した光学異性体の分離

口頭B講演

○鈴木 望・倉家 朋之・井改 知幸・前田 勝浩・八島 栄次 (名大院工)

PC接続時間:11:00~11:10

キーワード:らせん高分子、キラル、光学分割、らせん記憶

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