日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2020年3月24日(火) 13:30 〜 16:40 C2 (講義棟 3F K302)

3C2-28~3C2-33 井改 知幸
3C2-35~3C2-40 松本 拓也
3C2-42~3C2-46 角田 貴洋

13:30 〜 13:40

[3C2-28] スチルベンにて架橋された高分子材料の作製と光応答性の評価

口頭A講演

○伊藤 賢人・大崎 基史・高島 義徳・田中 一生・中條 善樹・山口 浩靖・原田 明 (阪大院理・阪大高等共創研・阪大産研)

PC接続時間:13:20~13:30

キーワード:光刺激応答性ヒドロゲル、スチルベン

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