日本化学会 第100春季年会 (2020)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

触媒

触媒

2020年3月25日(水) 09:30 〜 11:30 B1 (講義棟 2F K201)

4B1-04~4B1-09 岩瀬 顕秀
4B1-11~4B1-14 原田 隆史

09:40 〜 09:50

[4B1-05] セシウム処理WO3の光触媒活性に対するFe(III)の吸着量の依存性

口頭A講演

○保科 和宏・奥中 さゆり・三石 雄悟・郡司 天博・佐山 和弘 (産総研太陽光発電研セ・東理大院理工)

PC接続時間:09:20~09:30

キーワード:水分解、Fe(III)の吸着量、表面処理、レドックス、光触媒電解ハイブリッドシステム

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