14:10 〜 14:30
[4D2-32] レーザーアブレーションを用いて作製したBi2Se3微粒子系のフェムト秒励起状態ダイナミクス
口頭B講演
PC接続時間：14:00～14:10
キーワード：励起状態ダイナミクス、半導体微粒子、レーザーアブレーション、過渡吸収分光
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