日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2018年3月20日(火) 13:20 〜 16:40 B3 (14号館 1453)

1B3-27~1B3-32 田中 一生
1B3-34~1B3-39 加藤 遼
1B3-41~1B3-46 小門 憲太

午後

14:10 〜 14:20

[1B3-32] 安息香酸とフェニルアルデヒドを側鎖に有する高分子液晶コポリマーフィルムの光誘起性複屈折パターンの作製と非光反応化

01.口頭A講演

○稲田 翔伍・藤井 良輔・近藤 瑞穂・川月 喜弘 (兵庫県大院工)

PC接続時間:13:10~13:20

キーワード:高分子液晶、光配向、光耐久、加水分解、インクジェット