日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

化学教育・化学史

化学教育・化学史

2018年3月20日(火) 09:50 〜 11:50 B6 (14号館 1456)

1B6-06~1B6-10 今井 泉
1B6-12~1B6-15 長南 幸安

午前

10:20 〜 10:30

[1B6-09] ホウ酸シリカゲルを用いたテルペン系アルコールの脱水

01.口頭A講演

○村田 愛美・井上 正之 (東理大院科学教育)

PC接続時間:09:40~09:50

キーワード:固体酸、脱水、テルペン、リナロール