酸化ランタン系触媒の硫酸セシウム修飾によるOCM高活性化

講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

触媒

2018年3月20日(火) 13:30 〜 18:20 C2 (6号館 634)

1C2-28～1C2-32 森浩亮
1C2-35～1C2-37 山口和也
1C2-40～1C2-46 大山順也
1C2-48～1C2-51 田邊真
1C2-54～1C2-56 鎌田慶吾

午後

16:20 〜 16:30

阿久津大・滝瀬智也・○有谷博文 (埼工大工)

PC接続時間：15:20～15:30

キーワード：メタン酸化カップリング、酸化ランタン触媒、硫酸セシウム