14:20 〜 14:30
[2A8-33] かさ高いEind基を有するヒドロシリレン・NHC付加体の合成
01.口頭A講演
PC接続時間：13:20～13:30
キーワード：ケイ素、シリレン、N-ヘテロ環状カルベン、ヒドロシリレン、縮環型立体保護基
アカデミック・プログラム（AP）
錯体化学・有機金属化学
2018年3月21日(水) 12:30 〜 17:40 A8 (14号館 1443)
2A8-22～2A8-25 河内 敦
2A8-28～2A8-33 岩本 武明
2A8-35～2A8-40 菅野 研一郎
2A8-42～2A8-46 水畑 吉行
2A8-48～2A8-52 一戸 雅聡
午後
14:20 〜 14:30
PC接続時間：13:20～13:30
キーワード：ケイ素、シリレン、N-ヘテロ環状カルベン、ヒドロシリレン、縮環型立体保護基