嵩高いアリール基を有するシラン類の合成研究

講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

錯体化学・有機金属化学

2018年3月21日(水) 12:30 〜 17:40 A8 (14号館 1443)

2A8-22～2A8-25 河内敦
2A8-28～2A8-33 岩本武明
2A8-35～2A8-40 菅野研一郎
2A8-42～2A8-46 水畑吉行
2A8-48～2A8-52 一戸雅聡

午後

14:40 〜 14:50

○本多峻也・佐々木茂・岩本武明 (東北大院理)

PC接続時間：14:30～14:40

キーワード：立体保護、嵩高いアリール基、シリルラジカル、シリルカチオン