日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

触媒

触媒

2018年3月21日(水) 13:10 〜 17:30 C1 (6号館 633)

2C1-26~2C1-32 田中 淳皓
2C1-49~2C1-51 竹内 雅人

午後

14:10 〜 14:30

[2C1-32] RuO2修飾ZnSe:Cu(In,Ga)Se2粉末光カソードによる疑似太陽光照射下での安定的な光電気化学的メチルシクロヘキサン生成

02.口頭B講演

○影島 洋介・後藤 陽介・兼古 寛之・嶺岸 耕・堂免 一成 (東大院工)

PC接続時間:13:00~13:10

キーワード:有機ハイドライド、メチルシクロヘキサン、アニオン交換膜、光カソード、光電気化学