PDF ダウンロード スケジュール 6 09:40 〜 09:50 [2C3-05] オレフィンのヒドロシリル化反応に高活性を発現するRh錯体と第三級アミンのシリカ表面への共存固定法 01.口頭A講演 ○前田 恭吾・本倉 健・上村 洋平・松村 大樹・田 旺帝 (東工大物質理工) PC接続時間:09:20~09:30 キーワード:共存固定、不均一触媒、ロジウム触媒、ヒドロシリル化反応、シリカ