日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

触媒

触媒

2018年3月21日(水) 09:30 〜 12:00 C3 (6号館 635)

2C3-04~2C3-07 前野 禅
2C3-09~2C3-12 本倉 健
2C3-14~2C3-17 熊谷 啓

午前

09:40 〜 09:50

[2C3-05] オレフィンのヒドロシリル化反応に高活性を発現するRh錯体と第三級アミンのシリカ表面への共存固定法

01.口頭A講演

○前田 恭吾・本倉 健・上村 洋平・松村 大樹・田 旺帝 (東工大物質理工)

PC接続時間:09:20~09:30

キーワード:共存固定、不均一触媒、ロジウム触媒、ヒドロシリル化反応、シリカ