講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 09:00 〜 12:20 E4 (10号館 1022)

2E4-01～2E4-05 三友秀之
2E4-08 前田瑞夫
2E4-15～2E4-20 藤森厚裕

午前

09:20 〜 09:40

[2E4-03] 電気化学的水素生成反応におけるポルフィリン保護金クラスターの配位子効果

02.口頭B講演

○江口大地・坂本雅典・寺西利治 (京大化研)

PC接続時間：08:50～09:00

キーワード：金クラスター、ポルフィリン、水素生成反応