日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 09:00 〜 12:20 E4 (10号館 1022)

2E4-01~2E4-05 三友 秀之
2E4-08 前田 瑞夫
2E4-15~2E4-20 藤森 厚裕

午前

11:40 〜 12:00

[2E4-17] 気-水界面における末端オクチル化セルロースオリゴマーの集合挙動と機能

02.口頭B講演

○家高 佑輔・澤田 敏樹・芹澤 武 (東工大物質理工)

PC接続時間:11:10~11:20

キーワード:セルロース、セロデキストリンホスホリラーゼ、気-水界面、液滴、バックリング