日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 09:00 〜 12:20 E4 (10号館 1022)

2E4-01~2E4-05 三友 秀之
2E4-08 前田 瑞夫
2E4-15~2E4-20 藤森 厚裕

午前

12:10 〜 12:20

[2E4-20] シリカ前駆体垂直成長構造体への金ナノ粒子の位置選択的吸着と表面構造制御

01.口頭A講演

○毛利 一貴・枝 真住・納城 美沙・中田 湧也・奈須野 恵理・加藤 紀弘・飯村 兼一 (宇都宮大院工)

PC接続時間:11:10~11:20

キーワード:Langmuir-Blodgett法、金ナノ粒子、位置選択的吸着、無電解めっき