日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 13:30 〜 17:30 E4 (10号館 1022)

2E4-28~2E4-32 森 泰蔵
2E4-34~2E4-38 飯村 兼一
2E4-40~2E4-44 Wang Ke-Hsuan
2E4-46~2E4-51 大場 正昭

午後

14:40 〜 14:50

[2E4-35] Vortex LB法によるカーボンナノリングの二次元薄膜の作製

01.口頭A講演

○森 泰蔵・田中 啓之・ダルイ アミット・三苫 伸彦・坂本 裕俊・スレスタ ロック クマール・伊丹 健一郎・有賀 克彦 (物材機構MANA・名大院理)

PC接続時間:14:20~14:30

キーワード:炭素薄膜、ラングミュア・ブロジェット膜、カーボンナノリング、炭素化、ナノシート