日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 13:30 〜 17:30 E4 (10号館 1022)

2E4-28~2E4-32 森 泰蔵
2E4-34~2E4-38 飯村 兼一
2E4-40~2E4-44 Wang Ke-Hsuan
2E4-46~2E4-51 大場 正昭

午後

14:50 〜 15:00

[2E4-36] フッ化炭素鎖を含むホスホン酸修飾ナノダイヤモンド組織化膜の形成と構造

01.口頭A講演

○郭 毅飛・平山 周平・町田 大樹・赤坂 修一・藤森 厚裕 (埼大院理工)

PC接続時間:14:20~14:30

キーワード:ナノダイヤモンド、水面上単粒子膜、フッ素化ホスホン酸、有機修飾、粒子配列