日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 13:30 〜 17:30 E4 (10号館 1022)

2E4-28~2E4-32 森 泰蔵
2E4-34~2E4-38 飯村 兼一
2E4-40~2E4-44 Wang Ke-Hsuan
2E4-46~2E4-51 大場 正昭

午後

16:10 〜 16:20

[2E4-44] 錯形成に伴う会合状態変化を利用したアンフォテリシンBチャネルの透過能制御

01.口頭A講演

○井上 雄希・淺田 紗成・越山 友美・大場 正昭 (九大院理)

PC接続時間:15:20~15:30

キーワード:イオンチャネル、アンフォテリシンB、錯形成