日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 13:30 〜 17:30 E4 (10号館 1022)

2E4-28~2E4-32 森 泰蔵
2E4-34~2E4-38 飯村 兼一
2E4-40~2E4-44 Wang Ke-Hsuan
2E4-46~2E4-51 大場 正昭

午後

16:50 〜 17:00

[2E4-48] 熱刺激応答性高分子ゲルを用いたリポソームの放出制御

01.口頭A講演

○大岡 椋・杉川 幸太・池田 篤志 (広島大院工)

PC接続時間:16:20~16:30

キーワード:リポソーム、熱刺激応答性放出、N-イソプロピルアクリルアミド、ドラッグデリバリーシステム、ゲル