日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 09:00 〜 12:20 E5 (10号館 1023)

2E5-01~2E5-06 西山 桂
2E5-08~2E5-13 矢島 知子
2E5-15~2E5-19 川端 庸平

午前

10:10 〜 10:20

[2E5-08] 低ずり速度領域で定常状態として存在するラメラ/オニオン中間構造

01.口頭A講演

○鈴木 健斗・川端 庸平・菜嶋 健司・大野 宏策・加藤 直 (首都大院理工)

PC接続時間:10:00~10:10

キーワード:界面活性剤、ラメラ相、レオロジー、X線小角散乱、小角光散乱