日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月21日(水) 13:30 〜 17:30 E5 (10号館 1023)

2E5-28~2E5-33 木田 敏之
2E5-35~2E5-40 小松 晃之
2E5-42~2E5-47 角田 貴洋
2E5-49~2E5-51 東口 顕士

午後

13:30 〜 13:40

[2E5-28] 両親媒性ロタキサンの合成、トポロジー変換およびミセル形成

01.口頭A講演

○鶴岡 大樹・中薗 和子・高田 十志和 (東工大物質理工)

PC接続時間:13:20~13:30

キーワード:ロタキサン、トポロジー、高分子ミセル、両親媒性、クラウンエーテル