日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

有機化学―反応と合成 B.芳香族化合物

有機化学―反応と合成 B.芳香族化合物

2018年3月21日(水) 13:30 〜 17:40 F1 (10号館 1031)

2F1-28~2F1-33 大森 建
2F1-35~2F1-39 三宅 秀芳
2F1-42~2F1-46 吉田 優
2F1-48~2F1-52 今堀 龍志

午後

16:30 〜 16:40

[2F1-46] 刺激応答性ルイス塩基触媒による向山アルドール反応のジアステレオ選択性自在制御

01.口頭A講演

○佐々木 彩・平沼 拓也・阿部 由衣奈・今堀 龍志 (東理大院工)

PC接続時間:15:40~15:50

キーワード:ジアステレオ選択性制御、向山アルドール反応、刺激応答性触媒