講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

高分子

高分子

2018年3月22日(木) 13:20 〜 17:50 B2 (14号館 1452)

3B2-27～3B2-32 林正太郎
3B2-34～3B2-38 神林直哉
3B2-41～3B2-46 足立馨
3B2-48～3B2-53 青木大輔

午後

14:30 〜 14:50

[3B2-34] 安定ニトリルN-オキシドの無触媒クリック反応によるポリシロキサンの修飾及び架橋

02.口頭B講演

○筒場豊和・高田十志和 (東工大物質理工)

PC接続時間：14:20～14:30

キーワード：安定ニトリルN-オキシド、ポリシロキサン、高分子修飾・架橋反応、無触媒クリック反応