日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2018年3月22日(木) 13:20 〜 16:40 B3 (14号館 1453)

3B3-27~3B3-31 角田 貴洋
3B3-34~3B3-38 角田 貴洋
3B3-41~3B3-45 小門 憲太

午後

13:40 〜 13:50

[3B3-29] デンドリマーを用いたビスマスクラスターの精密合成とポリマー保護

01.口頭A講演

○細野 伶奈・神戸 徹也・今岡 笙太郎・今岡 享稔・山元 公寿 (東工大化生研)

PC接続時間:13:10~13:20

キーワード:ビスマス、クラスター、ポリビニルピロリドン、デンドリマー