日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2018年3月22日(木) 13:20 〜 16:40 B3 (14号館 1453)

3B3-27~3B3-31 角田 貴洋
3B3-34~3B3-38 角田 貴洋
3B3-41~3B3-45 小門 憲太

午後

16:10 〜 16:20

[3B3-44] 光学活性熱応答性高分子が形成する高分子疎水場内での分子内Diels-Alder反応

01.口頭A講演

○宮北 奏紀・石船 学 (近畿大理工)

PC接続時間:15:30~15:40

キーワード:熱応答性高分子、光学活性高分子、コポリマー、高分子疎水場、ディールス・アルダー反応