講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月22日(木) 13:30 〜 17:50 E4 (10号館 1022)

3E4-28～3E4-33 前之園信也
3E4-35～3E4-40 岡村陽介
3E4-42～3E4-47 伊村芳郎
3E4-49～3E4-53 須川晃資

午後

14:40 〜 14:50

[3E4-35] 耐酸化性カルボン酸保護銅ナノ粒子の低温焼結

01.口頭A講演

○迫中あやめ・佐藤徹雄・松原正樹 (仙台高専)

PC接続時間：14:30～14:40

キーワード：銅ナノ粒子、導電性インク、プリンテッドエレクトロニクス、低温焼結