日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2018年3月22日(木) 13:30 〜 17:50 E4 (10号館 1022)

3E4-28~3E4-33 前之園 信也
3E4-35~3E4-40 岡村 陽介
3E4-42~3E4-47 伊村 芳郎
3E4-49~3E4-53 須川 晃資

午後

15:00 〜 15:10

[3E4-37] 紫外線照射によるポリスチレン粒子へのナノ螺旋空孔の作製とその光学特性

01.口頭A講演

○村井 洸太・市川 大翔・伊村 芳郎・王 可□・河合 武司 (東理大工)

PC接続時間:14:30~14:40

キーワード:ナノ加工技術、ポリスチレン粒子、紫外線照射、螺旋構造、キラリティー