講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

無機化学

無機化学

2018年3月23日(金) 12:30 〜 15:40 B4 (14号館 1454)

4B4-22～4B4-26 宗宮穣
4B4-28～4B4-32 吉原直記
4B4-35～4B4-40 鈴木真也

午後

14:10 〜 14:30

[4B4-32] 二珪化カルシウムとベンジルブロミドの反応によるベンジル基修飾層状シリコンの合成とその光物性

02.口頭B講演

○大橋雅卓・中野秀之 (豊田中研)

PC接続時間：13:20～13:30

キーワード：二珪化カルシウム、シリコン単原子層、ベンジルブロミド、有機修飾層状シリコン、光応答電流