講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

無機化学

無機化学

2018年3月23日(金) 12:30 〜 15:40 B4 (14号館 1454)

4B4-22～4B4-26 宗宮穣
4B4-28～4B4-32 吉原直記
4B4-35～4B4-40 鈴木真也

午後

14:50 〜 15:10

[4B4-36] 化学気相蒸着法によるグラフェン合成のための銅箔表面への化学エッチング処理の検討

02.口頭B講演

○吉原直記・野田賢 (福岡大工)

PC接続時間：14:30～14:40

キーワード：グラフェン、化学気相蒸着法、化学エッチング処理