講演情報

特別企画

特別企画

液相高エネルギープロセッシング

2018年3月23日(金) 09:30 〜 12:30 S4 (14号館 1422)

4S4-02～4S4-05 中村貴宏
4S4-06～4S4-08 杉山輝樹

午前

10:00 〜 10:25

[4S4-03] レーザアブレーションを用いたナノ粒子製造装置の紹介

19.特別企画講演

○川上友則 (浜松ナノテクノロジー)

キーワード：レーザアブレーション、ナノ分散液、装置、衝撃波、発光