日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

特別企画

特別企画

液相高エネルギープロセッシング

2018年3月23日(金) 09:30 〜 12:30 S4 (14号館 1422)

4S4-02~4S4-05 中村 貴宏
4S4-06~4S4-08 杉山 輝樹

午前

10:25 〜 10:45

[4S4-04] 固液界面に誘起する高エネルギー場を利用したレーザープロセッシング

19.特別企画講演

○佐藤 正健 (産総研機能化学)

キーワード:レーザー誘起背面湿式加工法、レーザー微細加工、微細構造形成、ガラス材料、キャビテーション