日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

特別企画

特別企画

液相高エネルギープロセッシング

2018年3月23日(金) 09:30 〜 12:30 S4 (14号館 1422)

4S4-02~4S4-05 中村 貴宏
4S4-06~4S4-08 杉山 輝樹

午前

11:20 〜 11:45

[4S4-06] 界面活性剤水溶液中のペリレン微結晶のレーザーアブレーションによるナノ粒子の生成

19.特別企画講演

○玉城 喜章 (琉大理)