講演情報

特別企画

特別企画

液相高エネルギープロセッシング

2018年3月23日(金) 09:30 〜 12:30 S4 (14号館 1422)

4S4-02～4S4-05 中村貴宏
4S4-06～4S4-08 杉山輝樹

午前

11:20 〜 11:45

[4S4-06] 界面活性剤水溶液中のペリレン微結晶のレーザーアブレーションによるナノ粒子の生成

19.特別企画講演

○玉城喜章 (琉大理)