ホストゲスト相互作用を用いた光刺激応答性高分子材料の作製

講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

高分子

2019年3月16日(土) 14:30 〜 18:50 B2 (2号館 (2F) 222)

1B2-34～1B2-39 須賀健雄
1B2-41～1B2-46 生越友樹
1B2-48～1B2-53 寺島崇矢
1B2-55～1B2-59 宇部達

午後

15:10 〜 15:20

[1B2-38] ホストゲスト相互作用を用いた光刺激応答性高分子材料の作製

○岡野七海・山口浩靖・原田明・高島義徳 (阪大院理・阪大高等共創研)

PC接続時間：14:20～14:30

キーワード：シクロデキストリン、超分子、ヒドロゲル、光応答性

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