日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2019年3月16日(土) 09:00 〜 12:00 B3 (2号館 (2F) 223)

1B3-01~1B3-06 西山 寛樹
1B3-08~1B3-13 神林 直哉
1B3-15~1B3-18 井本 裕顕

午前

11:20 〜 11:30

[1B3-15] 光精密ラジカル重合の分散重合への適用と微粒子内部のミクロ相分離形成

口頭A講演

○早川 雅宏・住田 裕代・高田 要・須賀 健雄・小柳津 研一 (早大先進理工)

PC接続時間:11:10~11:20

キーワード:精密ラジカル重合、光硬化、高分子ドーマント、ミクロ相分離

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