日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2019年3月16日(土) 14:30 〜 18:50 B3 (2号館 (2F) 223)

1B3-34~1B3-38 脇岡 正幸
1B3-41~1B3-46 田中 亮
1B3-48~1B3-53 中山 祐正
1B3-55~1B3-59 石割 文崇

午後

15:00 〜 15:10

[1B3-37] 希土類触媒によるアニシル基含有ブタジエンとエチレンの共重合

口頭A講演

○斎藤 雄介・西浦 正芳・侯 召民 (理研CSRS)

PC接続時間:14:20~14:30

キーワード:極性官能基、希土類、3,4-選択性、1,3-ブタジエン、共重合

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