日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

物理化学―反応

物理化学―反応

2019年3月16日(土) 13:10 〜 18:30 E2 (3号館 (4F) 342)

1E2-26~1E2-30 森澤 勇介
1E2-32~1E2-37 安松 久登
1E2-39~1E2-44 中嶋 敦
1E2-46~1E2-49 寺嵜 亨
1E2-51~1E2-57 若林 知成

午後

15:20 〜 15:40

[1E2-39] シリコン担体表面と強く電子的相互作用をしている白金クラスターへの分子吸着状態の双安定性

口頭B講演

○安松 久登 (豊田工大クラスター研)

PC接続時間:15:10~15:20

キーワード:白金クラスター、シリコン表面、双安定性、分子吸着状態、局在電子

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